基板的清洗,通過(guò)超聲清洗進(jìn)行。超聲清洗是利用超聲波在清洗液中的輻射,使液體震動(dòng)產(chǎn)生數(shù)萬(wàn)計(jì)的微小氣泡,這些氣泡在超聲波的縱向傳播形成的負(fù)壓區(qū)產(chǎn)生、生長(zhǎng),而在正壓區(qū)閉合,在這種空化效應(yīng)的過(guò)程中,微小氣泡閉合時(shí)可以產(chǎn)生超過(guò)1000個(gè)大氣壓的瞬間高壓,連續(xù)不斷的瞬間高壓沖擊物體表面,使物體表面和微小縫隙中的污垢迅速剝落。因此,超聲波清洗對(duì)物體表面具有一定損傷性,經(jīng)過(guò)多次實(shí)驗(yàn)(此實(shí)驗(yàn)未記錄實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)),確定合理的超聲功率、去離子水用量以及清洗液的高度和清洗時(shí)間。具體清洗流程及參數(shù)設(shè)置如下:打開(kāi)超聲清洗機(jī),功率調(diào)至100瓦,加入去離子水,液面高度為60mm~80mm之間。將電路軟基板或陶瓷基板放入瓷盒中,倒入HT1清洗液,液面略高基板上表面3mm~5 mm,然后將整個(gè)瓷盒放入超聲清洗機(jī)的支架上(水面低于清洗液2mm~3 mm),清洗時(shí)間為Xmin~Xmin。將95%乙,醇倒入瓷盒,液面略高于基板上表面3mm~5mm,然后將整個(gè)瓷盒放入超聲清洗機(jī)的支架上(水面低于清洗液2mm~3 mm),清洗時(shí)間為Xmin~Xmin。將清洗完畢的基板放入XC±3℃的烘箱中烘0.5h后,放入氮?dú)獗Wo(hù)柜。通過(guò)上述多次實(shí)驗(yàn)后確定的清洗工序,清洗完成后的基板表面無(wú)油污、雜質(zhì)等殘留物。
腔體的清洗使用超聲波清洗機(jī),具體清洗流程及參數(shù)設(shè)置如下:打開(kāi)超聲清洗機(jī),功率調(diào)至100瓦,倒入HT1清洗液,液面高度為60mm~80mm之間,將腔體放入超聲清洗機(jī)清洗液中,液面略高腔體上表面3mm~5 mm,且液面高度不得超過(guò)80mm,清洗時(shí)間為Xmin~Xmin。將95%乙醇倒入超聲波清洗機(jī)中,液面高度為60mm~80 mm之間,將腔體放入超聲清洗機(jī)清洗液中,液面略高腔體上表面3mm~5mm ,且液面高度不得超過(guò)80mm,清洗時(shí)間為Xmin~Xmin。將清洗完畢的基板放入XC±3℃的烘箱中烘0.5h后,放入氮?dú)獗Wo(hù)柜。通過(guò)上述多次實(shí)驗(yàn)后確定的清洗工序,清洗完成后的腔體表面無(wú)油污、雜質(zhì)等殘留物。