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C-31型雙面光刻機 成都精密光刻機廠家現(xiàn)貨

單價： ￥280000.00    元 / 臺

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累計評價
品牌 : 未填寫
銷量 : 累計出售 0 臺
發(fā)貨地 : 四川省-成都市-成華區(qū)
有效期至 : 長期有效
數(shù)量 : 減少 增加臺 庫存9999臺
更新 : 2022-07-12
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公司基本資料信息
 

主要用途
 
主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。
 
由于本機有特殊的找平機構(gòu)，使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適用非圓形基片和小型基片的曝光。
 
工作方式
 
本機采用版—版對準雙面同時曝光
 
主要構(gòu)成
 
主要由高精度特制的翻版機構(gòu)、雙視場CCD顯微鏡顯示系統(tǒng)、多點光源、蠅眼、LED曝光頭、真空管路系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、直聯(lián)式無油真空泵、防震工作臺等組成。
 
主要功能特點
 
1.適用范圍廣
 
適用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片的對準曝光。
 
2.結(jié)構(gòu)先進
 
該機為雙面接觸式光刻機，特制的翻版機構(gòu)，能消除基片楔形誤差，保證上、下二塊掩膜版對基片上、下兩面良好的接觸，從而保證基片上、下兩面的曝光質(zhì)量。
 
3.操作簡便
 
采用手動方式，特制的翻版機構(gòu)
 
4.可靠性高
 
采用進口電磁閥、按鈕、定時器；真空管路系統(tǒng)和精密的零件加工，使本機具有非常高的可靠性。