主要用途

主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。

由于本機(jī)有特殊的找平機(jī)構(gòu)，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適用非圓形基片和小型基片的曝光。

＊這是一臺(tái)雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光的光刻機(jī);

＊這臺(tái)機(jī)器又能完成普通光刻機(jī)的任何工作；

＊同時(shí)又是一臺(tái)檢查雙面對(duì)準(zhǔn)精度的檢查儀。

工作方式

本機(jī)為雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光

主要構(gòu)成

主要由高精度特制的翻版機(jī)構(gòu)，雙視場(chǎng)CCD顯微鏡顯示系統(tǒng)，采用高均勻性的多點(diǎn)光源、蠅眼、LED、曝光頭，氣動(dòng)管路系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)，直聯(lián)式無(wú)油真空泵。二級(jí)防震工作臺(tái)等組成。

主要技術(shù)指標(biāo)：

⒈  高均勻性多點(diǎn)光源.蠅眼LED、曝光頭

＊采用350W直流球形汞燈

＊出射光斑≤φ110mm

＊光強(qiáng)≥20mw

＊光的不均勻性≤±3%

＊光強(qiáng)度可通過(guò)光闌調(diào)節(jié)，3～20mw任意調(diào)節(jié)

＊曝光時(shí)間采用0～999.9秒時(shí)間繼電器控制

⒉ 觀察系統(tǒng)為上下各兩個(gè)單筒顯微鏡上裝四個(gè)CCD攝像頭通過(guò)視屏線(xiàn)連接計(jì)算機(jī)到液晶顯視屏上。

＊單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續(xù)變倍顯微鏡

＊CCD攝像機(jī)靶面對(duì)角線(xiàn)尺寸為：1/3″,6mm

＊采用19″液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19×25.4/6=56倍

＊觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：

0.7×56=39倍（***小倍數(shù)）  1.7×56=95倍

1.7×56=95倍（***小倍數(shù)）  4.5×56=252倍（******倍數(shù)）

10×56=560倍（******倍數(shù)）

＊右表板上有一視屏轉(zhuǎn)換開(kāi)關(guān)：向左為上二個(gè)CCD，向右為下二個(gè)CCD

⒊專(zhuān)用計(jì)算機(jī)軟件系統(tǒng)

⒋非常特殊的板架裝置

主要功能特點(diǎn)

＊該裝置能分別裝入100×100板架或125×125板架，按用戶(hù)要求另配置63×63板架，對(duì)版進(jìn)行真空吸附；

＊該裝置安裝在機(jī)座上，能?chē)@基礎(chǔ)點(diǎn)作翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，相對(duì)于承片臺(tái)作上下翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，便于上下版和上下片

＊該裝置反復(fù)翻轉(zhuǎn)，重復(fù)精度為≤±2μm

＊該裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差之功能，保證版下平面與片上平

 面之良好接觸，以便提高曝光質(zhì)量

＊ 承片臺(tái)調(diào)整裝置：

＊ 配備有Φ75、Φ100承片臺(tái)各一個(gè)，這二種承片臺(tái)有二個(gè)長(zhǎng)方孔，

下面二個(gè)CCD通過(guò)該孔能觀察到版或片的下平面；并實(shí)現(xiàn)真空密著曝光，Φ50基片不能實(shí)現(xiàn)真空密著曝光。

＊承片臺(tái)能作X、Y、θ運(yùn)動(dòng)，X、Y、可作±5mm運(yùn)動(dòng)，θ運(yùn)動(dòng)為±5°

＊承片臺(tái)密著環(huán)相對(duì)于版，能實(shí)現(xiàn)“真空密著”：（基片Φ75～Φ100mm）

＊真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸

＊真空密著力≤-0.05Mpa～-0.02Mpa為軟接觸

＊真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸          

＊工作條件 ：

①電源：50HZ  220V

②氣源：≥0.4Mpa

③尺寸：長(zhǎng)900mm×寬650mm×高1500mm

④重量：～150kg