主要用途：

主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研

制和生產(chǎn)。

由于本機找平機構先進，找平力小、使本機適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。

（1）    這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機；

（2）    這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作；

（3）    同時又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。

使用、維護和保養(yǎng)：

1、每日檢查：這樣做，可以使曝光機長期處于良好的工作狀態(tài)。

（1）    測量成像面照度，調整光強到所需照度，并設定好所需時間。

（2）    清掃板架和承片臺，使之無油、無塵、無硅渣等。

（3）    注意觀察系統(tǒng)真空表所顯示的真空度，是否≤-0.07Mpa，否則應檢查管路系統(tǒng)，查明漏氣原因，并設法排除。

（4）    查看進氣源是否≥0.4Mpa，并將氣動雙聯(lián)件輸出調到0.3Mpa 。

（5）    本機不需水源，進電源為交流220V，使用維護簡單。