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技術(shù)要求 |
公 差 范 圍 |
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刻畫小線寬 |
1.5um |
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刻畫大面積 |
180mm |
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刻畫圖案誤差 |
±0.5um（根據(jù)刻畫面積而定） |
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刻畫深度 |
0.05um-10um（根據(jù)圖案寬度而定） |
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刻畫深度誤差 |
±0.001um |
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材 料 |
硅、鍺、硒化鋅、硫化鋅等紅外材料 |
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我們可以根據(jù)客戶要求，在紅外材料拋光基片表面加工碼盤,相位光柵,投射光柵，反射光柵、分劃版,分辨率版等產(chǎn)品 |
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